第346章 放大光刻环节

“国外主流光刻机采用的都是侵没式光刻技术,我想魔都微电子和夏国微电子两家也都是采用的这种技术吧。”

两位老总闻言,立刻给出了肯定的答复

“没错,我们目前确实在使用侵没式光刻技术。”

“是的,江总说得对,我们两家公司都是采用这种技术。”

江辰接着提出了一个深入的问题

“那两位前辈有没有想过换一种技术路线了?就比如新型的EUV光刻技术?”

这个问题显然让两位老总陷入了沉思。

他们长长叹了口气,然后解释道

“江总,在建立之初的技术会议当中,我们都曾深入讨论过EUV光刻技术。

确实,EUV光刻技术能制造的逻辑器件和存储器件性能更强,是未来的最佳工艺。

EUV光刻技术我们当然也考虑过,但是它所需要的技术指标和产能要求我们都达不到,这是一个非常现实的问题。”

“如果我能帮你们解决这个问题了呢?”

江辰的话语突然响起,让两位老总瞬间愣住了,他们纷纷用不敢置信的眼神看向他,仿佛在确认这句话是否真实。

“既然各位领导都已经签署了保密协议,那我也没什么好隐瞒的了。”

江辰的语气显得自信而坚定

“请各位看这里。”

随着他的话音落下,他身后的图片再次发生了变化,出现了一个巨大的高空鸟瞰图。

这幅图像清晰地展示了一片连绵不绝的厂房,很显然,这是一个规模庞大的半导体制造园区。

图中连成一体的厂房立刻吸引了所有人的注意,大家纷纷凝神细看,试图从中找出江辰想要传达的信息。

然而,尽管他们仔细观察,却仍然不明白江辰给出这幅图的具体意思。

江辰见状,微微一笑,解释道

“既然两家设备制造公司都曾经讨论过EUV光刻技术,那么肯定理解困扰这项技术实现的难题对吧?

极紫外光刻是用波长10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,它在纳米技术上具有很高的要求,因此设备制造起来更加困难。”